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J-GLOBAL ID：200903016049176316

ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： 河辺 保雅 ,  丹 史郎 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 内田 亘彦 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992012983
Publication number (International publication number)：1993204149
Application date： Jan. 28, 1992
Publication date： Aug. 13, 1993
Summary：

【要約】【構成】 本発明のポジ型フオトレジスト組成物は、下記一般式(1)で表されるフェノール類と一般式(2)で表される化合物を、モル比で40/60〜95/5モル%の割合で用いてアルデヒド類と重縮合させることにより得られるアルカリ可溶性樹脂と、1,2-キノンジアジド化合物を含有することを特徴とする。【化5】ここでR1 〜R3 は同一または異なってもよく、置換または非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アロキシル基、アリールカルボニル基、アシル基及び、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基を表す。R4 は水素原子、アルキル基を表し、R5 はヒドロキシメチル基を表す。【効果】 本発明のレジスト組成物は、感度、残膜率、解像力、耐熱性、レジスト形状及び現像性が優れたものである。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表されるフェノール類と一般式(2)で表される化合物を、モル比で一般式(1)で表されるフェノール類/一般式(2)で表される化合物=40/60〜95/5モル%の割合で用い、アルデヒド類と重縮合させることにより得られるアルカリ可溶性樹脂と、1,2-キノンジアジド化合物を含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 〜R3 は同一または異なってもよく、置換または非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アロキシル基、アリールカルボニル基、アシル基、及び水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基を表す。【化2】ここで、R4 は水素原子、アルキル基を表し、R5 はヒドロキシメチル基を表す。

IPC (2)：

G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027