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J-GLOBAL ID：200903016059988459

粒子反応パターン判定方法およびその装置

Inventor： 横山 茂樹 ,  白石 治
Applicant, Patent owner： 高電工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995234334
Publication number (International publication number)：1997079985
Application date： Sep. 12, 1995
Publication date： Mar. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】反応パターンと気泡パターンとを良好に分離することができ、もって反応パターンを精度よく検出でき、信頼性の高いパターン判定を実現する。【解決手段】検査対象から得られた二次元画像データSを回路41,42を使って高低2つの閾値でスライスし、このスライスによって分離された各領域のスライスレベル間での面積差から回路50を使って各領域の急峻度を求め、また、回路51,52を使って各領域のスライスレベルでの円形度を求め、さらに回路47を使って各領域の最大値を求め、得られた最大値、円形度および急峻度のデータと気泡判断基準データとを比較して各領域の中に気泡領域が存在するか否か判定し、気泡領域が存在するときには二次元画像データから気泡領域の二次元画像データを削除したデータを基にして粒子パターン判定回路55でパターンを判定するようにしている。

Claim (excerpt)：

粒子反応パターンを判定するに当って、検査対象から得られた二次元画像データを高低2つの閾値でスライスし、このスライスによって分離された各領域のスライスレベル間での面積差から各領域の急峻度を求めるとともに前記各領域のスライスレベルでの円形度を求め、さらに前記各領域の最大値を求め、得られた最大値、円形度および急峻度のデータと気泡判断基準データとを比較して前記各領域の中に気泡領域が存在するか否か判定し、気泡領域が存在するときには前記二次元画像データから気泡領域の二次元画素データを削除したデータを基にしてパターンを判定することを特徴とする粒子反応パターン判定方法。

IPC (4)：

G01N 21/84 ,  G01B 11/24 ,  G01N 21/17 ,  G01N 33/543 585

FI (4)：

G01N 21/84 Z ,  G01B 11/24 F ,  G01N 21/17 A ,  G01N 33/543 585