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J-GLOBAL ID：200903016061463061

光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグラフィ用露光装置

Inventor：
木下 真言

About 木下 真言


Applicant, Patent owner：
リコーマイクロエレクトロニクス株式会社

About リコーマイクロエレクトロニクス株式会社


Agent (1)： 黒田 壽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998148449
Publication number (International publication number)：1999320968
Application date： May. 13, 1998
Publication date： Nov. 24, 1999
Summary：
【要約】【課題】 高画素密度の光像を形成することができるとともに、空間光変調器の各ミラーからの反射光を有効利用して各画素における照射光強度を高めることができる光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグラフィ用露光装置を提供する。【解決手段】 光源1と、光源1からの光を反射する反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなるDMD2とを備え、DMD2からの反射光を、一方向に相対移動する対象物5に対して照射することにより、対象物5上に光像を形成する光像形成装置において、DMD2の各ミラーからの反射光像が、対象物5上において該相対移動の方向と直交する方向に一列に且つ該ミラーのピッチpよりも小さいピッチで並ぶように、DMD2の各ミラーを配列するとともに各ミラーの反射面の傾きを制御する制御装置4を設け、DMD2の各ミラーからの反射光を対象物5上に収束させる複数のレンズからなるマイクロレンズ3を設ける。
Claim (excerpt)：
反射面の傾きを独立制御可能な複数のミラーからなる空間光変調器に光源の光を照射し、該空間光変調器からの反射光を、一方向に相対移動する対象物に対して照射することにより、該対象物上に光像を形成する光像形成方法であって、該空間光変調器の各ミラーからの反射光像が、該対象物上において該相対移動の方向と直交する方向に一列に且つ該ミラーのピッチpよりも小さいピッチで並ぶように、該空間光変調器の各ミラーで光を反射し、該空間光変調器の各ミラーからの反射光を該対象物上に収束させることを特徴とする光像形成方法。
IPC (7)：
B41J 2/445 ,  G02B 7/00 ,  G02B 7/198 ,  G02B 26/08 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 511 ,  H04N 1/04
FI (7)：
B41J 3/21 V ,  G02B 7/00 D ,  G02B 26/08 E ,  G03B 27/32 Z ,  G03F 7/20 511 ,  G02B 7/18 B ,  H04N 1/04 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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