複屈折分布測定方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：山口巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992301443
Publication number (International publication number)：1994147986
Application date： Nov. 12, 1992
Publication date： May. 27, 1994
Summary：

【要約】【目的】測定試料に誘起した複屈折の二次元分布を、相対位相差の正,負符判別を含めて定量的,かつ高感度で測定でき、同時に主軸方向も把握できるようにした複屈折測定方法を提供する。【構成】単色光源1と二次元受光器8との間の光路に測定試料1を円偏光子9と検光子5との間に挿入して配置し、単色光源から出射した平行光束を前記円偏光子により円偏光に変えた上で測定試料を透過させて検光子に導くとともに、検光子を光束の軸の回りに回転しつつ、等角度毎に受光器で検出した画像データをサンプリングして後段の画像処理装置11に取り込み、かつその画像データを基に各ピクセル毎に演算処理して測定試料の複屈折で生じた相対位相差,およびその正,負符号を含む二次元的な複屈折分布と、主軸方向を求める。

Claim (excerpt)：

測定試料に誘起した複屈折分布を二次元的に求める複屈折分布測定方法であって、単色光源と二次元受光器との間の光路に測定試料を円偏光子と検光子との間に挿入して配置し、単色光源から出射した平行光束を前記円偏光子により円偏光に変えた上で測定試料を透過させて検光子に導くとともに、検光子を光束の軸の回りに回転しつつ、等角度毎に受光器で検出した画像データをサンプリングして画像処理装置に取り込み、かつその画像データを基に各ピクセル毎に演算処理して測定試料の複屈折で生じた相対位相差,およびその正,負符号を含む二次元的な複屈折分布と、主軸方向を求めることを特徴とする複屈折分布測定方法。

IPC (3)：

G01J 4/04 , H01S 3/00 , H01S 3/05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

偏光測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-110940 Applicant：旭光学工業株式会社
特開昭60-029621
特開平4-058120

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