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J-GLOBAL ID：200903016067013882

微細構造体の製造方法、露光方法

Inventor： 尼子 淳
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (3)： 稲葉 良幸 ,  田中 克郎 ,  大賀 眞司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006314812
Publication number (International publication number)：2008126283
Application date： Nov. 21, 2006
Publication date： Jun. 05, 2008
Summary：

【課題】高いスループットを確保しながら微細パターンを形成することを可能とする技術を提供すること。【解決手段】被加工物(2)にレーザービーム(LB)を照射することにより微細な周期構造を有する微細構造体を製造する方法であって、(a)第1の方向に長いビーム断面形状を有するパルス状のレーザービームを生成すること、(b)第1の方向と平行方向にレーザービーム又は被加工物を速度Vで移動させること、(c)レーザービームを、第1の照射機会における照射範囲(101)と第1の照射機会より後の第2の照射機会における照射範囲(102)とが部分的に重畳するようにレーザービームのパルスの繰り返し周波数と速度Vとを相対的に設定して、被加工物に対して照射すること、を含む微細構造体の製造方法である。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

被加工物にレーザービームを照射することにより微細な周期構造を有する微細構造体を製造する方法であって、 (a)第1の方向に長いビーム断面形状を有するパルス状のレーザービームを生成すること、 (b)前記第1の方向と平行方向に前記レーザービーム又は被加工物を速度Vで移動させること、 (c)前記レーザービームを、第1の照射機会における照射範囲と前記第1の照射機会より後の第2の照射機会における照射範囲とが部分的に重畳するように前記レーザービームのパルスの繰り返し周波数と前記速度Vとを相対的に設定して、前記被加工物に対して照射すること、 を含む、微細構造体の製造方法。

IPC (6)：

B23K 26/36 ,  B81C 5/00 ,  B23K 26/073 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  G02B 5/30

FI (7)：

B23K26/36 ,  B81C5/00 ,  B23K26/073 ,  B23K26/06 J ,  B23K26/06 Z ,  B23K26/08 A ,  G02B5/30

F-Term (13)：

2H049BA05 ,  2H049BA06 ,  2H049BA45 ,  2H049BC01 ,  2H049BC05 ,  4E068AD00 ,  4E068AH00 ,  4E068CA03 ,  4E068CD05 ,  4E068CD08 ,  4E068CD10 ,  4E068CE02 ,  4E068CE04