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J-GLOBAL ID：200903016067514059

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 上谷 保則 ,  富岡 淳 ,  桑名 耕治 ,  中西 弘俊 ,  井田 綾子
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991217188
Publication number (International publication number)：1993053316
Application date： Aug. 28, 1991
Publication date： Mar. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像及びγ値に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び、例えば下式で表されるフェノール化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(I)で表されるフェノール化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換のアルケニル基または-OCOR3 を表し、R1 及びR2 の少なくとも一方は水素原子以外の基である。ここで、R3 は置換もしくは未置換のアルキル基または置換もしくは未置換のフェニル基を表す。Xは-CO-、-CR’R”-、-SO2 -または【化2】を表す。R’及びR”はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基またはα-ナフチル基を表す。)

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭60-150047
  
• 特開平3-296757
  
• 特開平4-274242
  
• 特開平4-122938
  
• 特開平4-299348