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J-GLOBAL ID：200903016067912054

水素分離膜の製造方法

Inventor： 小渕 彰 ,  伊藤 仁志 ,  谷口 浩之
Applicant, Patent owner： 三菱化工機株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000355084
Publication number (International publication number)：2002153739
Application date： Nov. 22, 2000
Publication date： May. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】パラジウム系水素分離膜におけるパラジウム合金膜を容易に歩留まりよく、できるだけ薄く形成することにより、低価格で高透過性の水素分離膜を製造することができる水素分離膜の製造方法を提供する。【解決手段】水素含有ガスから水素を選択的に透過分離する水素分離膜の製造方法において、(イ)多孔質担体の表面にパラジウムと合金化する金属箔を被着する工程と、(ロ)前記金属箔の表面にパラジウム膜を形成する工程と、(ハ)還元雰囲気で加熱処理してパラジウムを主体としたパラジウム合金膜を形成する工程を設けたことを特徴とする水素分離膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

水素含有ガスから水素を選択的に透過分離する水素分離膜の製造方法において、(イ)多孔質担体の表面にパラジウムと合金化する金属箔を被着する工程と、(ロ)前記金属箔の表面にパラジウム膜を形成する工程と、(ハ)還元雰囲気で加熱処理してパラジウムを主体としたパラジウム合金膜を形成する工程を設けたことを特徴とする水素分離膜の製造方法。

F-Term (11)：

4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MB04 ,  4D006MC02X ,  4D006NA31 ,  4D006NA46 ,  4D006NA47 ,  4D006NA49 ,  4D006PB66