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J-GLOBAL ID：200903016073378736
ポリ-1,4-フェニレンエーテルの製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996144454
Publication number (International publication number)：1997324044
Application date： Jun. 06, 1996
Publication date： Dec. 16, 1997
Summary：
【要約】【課題】C-C結合構造が生成せず、かつオルト位の分岐も少ないという構造の制御された、融点を示す、ポリ-1,4-フェニレンエーテルを製造する方法を提供する。【解決手段】下記一般式(I)で表される遷移金属錯体触媒を用いて、下記一般式(II)で表される原料を酸化剤存在下で重合するポリ-1,4-フェニレンエーテルの製造方法。(式中、Mは第4〜11族遷移金属原子を表し、R<SP>1 </SP>は配位原子として窒素原子、リン原子、酸素原子又は硫黄原子を有する有機基であり、すべてのR<SP>1 </SP>は同一でも異なっていてもよい。R<SP>1 </SP>は任意の組合わせで環を形成していてもよい。R<SP></SP><SP>2 </SP>は配位原子として窒素原子、リン原子、酸素原子又は硫黄原子を有する三官能性の有機基であり、すべてのR<SP>2 </SP>は同一でも異なっていてもよい。Yはカウンターアニオンであり、yはYの個数であって、Mの価数により決定される。)(式中、mは数平均ユニット数を表し、1<mである。)
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)で表される遷移金属錯体触媒を用いて、下記構造式(II)で表される原料を酸化剤存在下で重合することを特徴とするポリ-1,4-フェニレンエーテルの製造方法。(式中、Mは第4〜11族遷移金属原子を表し、R<SP>1 </SP>は配位原子として窒素原子、リン原子、酸素原子又は硫黄原子を有する有機基であり、すべてのR<SP>1 </SP>は同一でも異なっていてもよい。R<SP>1 </SP>は任意の組合わせで環を形成していてもよい。R<SP></SP><SP>2 </SP>は配位原子として窒素原子、リン原子、酸素原子又は硫黄原子を有する三官能性の有機基であり、すべてのR<SP>2 </SP>は同一でも異なっていてもよい。Yはカウンターアニオンであり、yはYの個数であって、Mの価数により決定される。)(式中、mは数平均ユニット数を表し、1<mである。)
Patent cited by the Patent：
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