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J-GLOBAL ID：200903016077802230
有害ガスの浄化装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993020724
Publication number (International publication number)：1994210133
Application date： Jan. 14, 1993
Publication date： Aug. 02, 1994
Summary：
【要約】【目的】 半導体製造工程などから排出される窒素弗化物を浄化剤と接触させて除去する際に、粉末が発生しても浄化剤充填部に閉塞や圧力損失などを生じたりすることがなく、効率よく浄化しうる装置を得る。【構成】 固形の浄化剤が充填された浄化部と、その下部に沈降してくる粉末の溜部となる空間部とを設け、必要に応じてバイブレーターを取り付ける。
Claim (excerpt)：
有害ガスの浄化中に発生する粉化物による装置内の圧力損失の上昇、およびガス流路の閉塞の防止手段を備えた有害ガスの浄化装置であって、ガスの出入口を有し、固形の浄化剤が充填され、かつ、ヒーターが配設された有害ガスの浄化部と、該浄化部の下部に位置し、有害ガスの浄化中に発生する粉化物を沈降させるための空間部およびガスの出入口を有する溜部とを備えてなることを特徴とする有害ガスの浄化装置。
IPC (5)：
B01D 53/36 ZAB
, B01D 53/34 ZAB
, B01J 21/06 ZAB
, B01J 23/74 ZAB
, B01J 23/74 301
