Pat

J-GLOBAL ID：200903016089148161

レジスト材料及びパタ-ン形成方法

Inventor： 渡辺 聡 ,  桜田 豊久 ,  柳 義敬 ,  名倉 茂広 ,  石原 俊信
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999255113
Publication number (International publication number)：2000162768
Application date： Sep. 09, 1999
Publication date： Jun. 16, 2000
Summary：

【要約】【課題】 基板に塗布されたレジスト材料表面と水若しくはアルカリ現像液との界面の接触角を、添加量を増加させるに従って低下させるフッ素系界面活性剤を含有することを特徴とするレジスト材料を提供する。【解決手段】 本発明のレジスト材料は、膜厚均一性が良好で、しかも塗布欠陥がなく、アルカリ現像液との塗れ性に優れていて、更には溶液でのパーティクルが増加せず、保存安定性が良好であって、しかも高エネルギー線に感応し、感度、解像性、再現性にも優れている。また、パターンがオーバーハング状になりにくく、寸法制御性に優れている。従って、本発明のレジスト材料は、これらの特性より、特にKrF,ArFエキシマレーザーの露光波長での超LSI製造用の微細パターン形成材料として好適である。

Claim (excerpt)：

基板に塗布されたレジスト材料表面と水若しくはアルカリ現像液との界面の接触角を、添加量を増加させるに従って低下させるフッ素系界面活性剤を含有することを特徴とするレジスト材料。

IPC (4)：

G03F 7/004 504 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/038 501 ,  G03F 7/039 501

FI (4)：

G03F 7/004 504 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/038 501 ,  G03F 7/039 501