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J-GLOBAL ID：200903016129181442

光磁気記録媒体

Inventor： 高橋 小弥太 ,  稲生 俊雄
Applicant, Patent owner： 東ソー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998077050
Publication number (International publication number)：1999273169
Application date： Mar. 25, 1998
Publication date： Oct. 08, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 近接場光磁気記録に適したSNRが大きく、記録磁界感度が高い光磁気記録媒体を提供する。【解決手段】 基板11上に形成した窒素含有量が30at%以上の窒化アルミニウム下地層12の上に、光磁気記録層13、保護層14、反射層等を形成する。また、第1保護層が透明な窒化アルミニウムからなる。また、下地層12の膜厚が5nm以上である。

Claim (excerpt)：

基板上に形成した窒素含有量が30at%以上の窒化アルミニウムからなる下地層又は窒素含有量が30at%以上の窒化アルミニウムを主成分とする下地層の上に、少なくとも光磁気記録層及び保護層を積層してなる光磁気記録媒体。

IPC (2)：

G11B 11/10 521 ,  G11B 11/10 523

FI (2)：

G11B 11/10 521 C ,  G11B 11/10 523