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J-GLOBAL ID：200903016144316222

複合半透膜およびその製造方法

Inventor： 新 幹雄 ,  房岡 良成 ,  池田 敏裕
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998291787
Publication number (International publication number)：2000117075
Application date： Oct. 14, 1998
Publication date： Apr. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】本発明は、分離膜に4級窒素原子を導入することにより、液状混合物の選択分離、特に、低塩濃度水溶液中の電解質除去に有用な複合半透膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】架橋ポリアミドを有する超薄膜層を微多孔性支持膜上に形成し、その架橋ポリアミドに、4級窒素原子を有し、かつ、少なくとも2個の反応性の官能基を有する化合物を反応させる。

Claim (excerpt)：

微多孔性支持膜上に架橋ポリアミドを有する超薄膜層を配してなる複合半透膜であって、亜硫酸水素ナトリウム溶液に浸漬させた後、1ppm塩化ナトリウム溶液を原水として用いたときの透過水の比抵抗保持率が80%以上であることを特徴とする複合半透膜。

IPC (4)：

B01D 71/56 ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/44

FI (4)：

B01D 71/56 ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/44 H

F-Term (23)：

4D006GA03 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006KB11 ,  4D006KE07R ,  4D006KE13R ,  4D006KE15Q ,  4D006KE19R ,  4D006MA07 ,  4D006MB18 ,  4D006MC54 ,  4D006MC56 ,  4D006MC62X ,  4D006MC71 ,  4D006MC78 ,  4D006NA05 ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006NA54 ,  4D006NA63 ,  4D006PB04 ,  4D006PB70

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 複合逆浸透膜による処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-197989   Applicant：日東電工株式会社