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J-GLOBAL ID：200903016170516000

放射線照射機器の制御装置および方法

Inventor： オイゲン バドゥーラ ,  ホルゲル ブランド ,  ハンス ゲオルグ エッセル ,  トーマス ハベラー ,  ヤン ホッフマン ,  ウォルフガング オット ,  クラウス ポッペンシ-ケル
Applicant, Patent owner： ゲゼルシャフト フュア シュベールイオーネンフォルシュンク エム ベー ハー
Agent (1)： 庄司 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999280372
Publication number (International publication number)：2001104498
Application date： Sep. 30, 1999
Publication date： Apr. 17, 2001
Summary：

【要約】【課題】 特に、重イオン治療において、放射線照射機器を制御する装置および方法を提供する。【解決手段】 本装置は、一連の回路モジュール(11〜17)を備え、各回路モジュール(11〜17)が、先行の回路モジュールとの個々の通信用接続を有し、かつ後続の回路モジュールとの個々の通信用接続をそれぞれ有する。一つの連鎖中に配置される制御モジュール(11〜17)により放射線照射機器を制御する方法において、各制御モジュール(11〜17)は、先行の制御モジュールと個々に通信し、かつ後続の制御モジュールと個々に通信する。

Claim (excerpt)：

放射線照射機器を制御する装置であって、一連の回路モジュール(11〜17)を備え、各回路モジュール(11〜17)が、先行の回路モジュールとの個々の通信用接続を有し、かつ後続の回路モジュールとの個々の通信用接続をそれぞれ有する装置。

IPC (2)：

A61N 5/10 ,  G21K 5/00

FI (2)：

A61N 5/10 D ,  G21K 5/00

F-Term (9)：

4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AG02 ,  4C082AG11 ,  4C082AN01 ,  4C082AN10 ,  4C082AR20 ,  4C082AT03 ,  4C082AT06