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J-GLOBAL ID:200903016208785396
有機EL素子およびその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
亀井 弘勝 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999167153
Publication number (International publication number):2000357589
Application date: Jun. 14, 1999
Publication date: Dec. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】従来の有機EL素子において、セグメント表示は絶縁膜でなされているが、厚い透明導電膜を必要とするので、抵抗値の増大、不均一化などの不良品発生の要因となっている。【解決手段】透明な基板上に、透明電極、少なくとも1層の有機層および陰極層が積層された有機EL素子において、透明電極膜上の配線部は仕事関数4.8eV以下の金属から成る膜で被覆されているが、発光パタ-ン部は該金属膜の被覆が除去されていることからなる有機EL素子を提供する。本発明は、従来の絶縁膜に代えて前記の金属膜でパターン化するものであって、透明導電膜を0.1μm以下に小さくすることができる。
Claim (excerpt):
透明な基板上に、透明電極、少なくとも1層の有機層および陰極層が積層された有機EL素子において、透明電極膜上の配線部は仕事関数4.8eV以下の金属から成る膜で被覆されているが、発光パタ-ン部は該金属膜の被覆が除去されていることを特徴とする有機EL素子。
IPC (3):
H05B 33/28
, H05B 33/10
, H05B 33/14
FI (3):
H05B 33/28
, H05B 33/10
, H05B 33/14 A
F-Term (8):
3K007AB05
, 3K007AB11
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007CC00
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
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