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J-GLOBAL ID：200903016218022951

ポジ型感光性組成物とそれを用いた微細パターン形成方法

Inventor： 石井 渡 ,  加藤 真也 ,  松浦 広明
Applicant, Patent owner： 富士ハントエレクトロニクステクノロジ-株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994214004
Publication number (International publication number)：1996076373
Application date： Sep. 07, 1994
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 従来よりも基板との密着性が極めて高く、エッチング処理、特にオーバーエッチング処理でも加工精度を向上させ、より微細なパターンを忠実に基板に転写することが可能なポジ型感光性組成物、及びそれを用いた微細パターン形成方法を提供することを目的とする。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂、o-キノンジアジド化合物、シクロヘキシル環もしくはモルホリン環を有するベンゾチアゾール化合物又はベンゾチアゾールのアミン塩、及び前記3成分を十分に溶解させる能力を有する溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、及びそれを用いた微細パターン形成方法。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ可溶性フェノール樹脂(b)o-キノンジアジド化合物(c)上記(a)、(b)及び下記(d)を十分に溶解させる能力を有する溶剤(d)下記一般式(I)で表されるベンゾチアゾール化合物及び/または下記一般式(II)で表されるベンゾチアゾールのアミン塩を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式中、R1 、R2 、R5 、R6 又はR7 は、各々水素原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基を表す。R3 及びR4 のうち少なくとも1つ、又はR8 、R9 及びR10のうち少なくとも1つは、シクロヘキシル環、モルホリン環、又はシクロヘキシル環あるいはモルホリン環を有するアルキル基、アルコキシ基またはアリール基を表し、R3 とR4 、又はR8 、R9 及びR10のうち少なくとも2つが、窒素原子とともに環を形成してモルホリン環を表してもよい。このとき残るものは各々水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/085 ,  H01L 21/027