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J-GLOBAL ID:200903016222860058

アパーチャ内の電着方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 伊東 忠彦 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000002026
Publication number (International publication number):2000234198
Application date: Jan. 07, 2000
Publication date: Aug. 29, 2000
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、バイア構造体を形成するため、比較的低価格で、かつ、容易に導電性材料を基板の小型アパーチャ内に堆積させる改良された方法の提供を目的とする。【解決手段】 本発明による導電性材料を基板のアパーチャに堆積させる方法は、前処理溶液をアパーチャに堆積させる工程を含む。前処理溶液は、めっきされる導電性材料のイオンを含み、好ましくは、実質的にプロトンを含まない。前処理溶液をアパーチャに堆積させた後、基板はめっき溶液中に浸漬され、同時に前処理溶液の少なくとも一部はアパーチャ内に残る。基板がめっき溶液中に浸漬されたとき、導電性材料はアパーチャ内で電気めっきされ、バイア構造体を形成する。
Claim (excerpt):
基板の小さいアパーチャ内にめっきをする方法であって、めっきされるイオンを含む前処理溶液を基板の少なくとも1個のアパーチャに堆積させる工程と、上記堆積した前処理溶液が上記少なくとも1個のアパーチャに残存する間に上記基板をめっき溶液に浸漬させる工程と、上記少なくとも1個のアパーチャ内に電気めっきを行う工程とを有する方法。
IPC (2):
C25D 7/00 ,  H05K 3/40
FI (2):
C25D 7/00 J ,  H05K 3/40 K
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平1-205400
  • 簡易設置型保安装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-204848   Applicant:日本ガード株式会社

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