Pat
J-GLOBAL ID:200903016236812765

フォトニック結晶ファイバ及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中村 稔 (外9名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000609822
Publication number (International publication number):2002541507
Application date: Mar. 31, 2000
Publication date: Dec. 03, 2002
Summary:
【要約】本発明は、クラッディングにより包囲された低屈折率のコアを有する光ファイバに関し、クラッディングは、高屈折率の領域を有すると共に実質的に周期性をもち、コア(4 )は、クラッディングの単一の最短期間よりも長い最長寸法を有している。この種のファイバでは、光は、クラッディング材料のフォトニック帯域ギャップによりコア領域に実質的に封じ込められる。本発明は又、光ファイバを製造する方法に関し、孔(7 )を構成する少なくとも1つの切頭管材を含む管材の積重ね体(5)を形成する工程と、積重ね体(5)を細長いキャビティをもつファイバ内へ引き入れる工程とを有する。ファイバは、高出力用途に適しているが、他の領域、例えば光増幅器、スペクトルフィルタ、レーザ、ガスセンサ及び通信ネットワークにも同等に適している。
Claim (excerpt):
高屈折率の領域を有し、実質的に周期性のクラッディングによって実質的に包囲されている実質的に一様な低屈折率の領域を有するフォトニック結晶ファイバにおいて、低屈折率の領域は、クラッディングの単一の最も短い周期よりも長い最長横方向寸法を有し、光をクラッディング材料のフォトニックバンドギャップによって低屈折領域中に実質的に閉じ込めることができ、閉じ込めた状態でファイバに沿って誘導できることを特徴とするフォトニック結晶ファイバ。
IPC (4):
G02B 6/20 ,  G02B 6/00 376 ,  G02F 1/365 ,  H01S 3/06
FI (4):
G02B 6/20 Z ,  G02B 6/00 376 Z ,  G02F 1/365 ,  H01S 3/06 B
F-Term (11):
2H050AA21 ,  2H050AC62 ,  2H050AC71 ,  2H050AC84 ,  2K002AA02 ,  2K002BA01 ,  2K002DA10 ,  2K002HA13 ,  5F072AB20 ,  5F072AK06 ,  5F072YY17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 微細構造光ファイバ
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願2000-553842   Applicant:クリスタルフィブレアクティーゼルスカブ
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

Return to Previous Page