Pat

J-GLOBAL ID：200903016261322373

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 高垣 宏 ,  舘川 香 ,  井田 綾子
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991316501
Publication number (International publication number)：1993150450
Application date： Nov. 29, 1991
Publication date： Jun. 18, 1993
Summary：

【要約】【目的】 γ値、プロファイル及び塗布性等の諸性能に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 ピルビン酸アルキルエステル並びに(a)γ-ブチロラクトン、(b)乳酸エチル及び(c)γ-ブチロラクトン/乳酸エチル混合溶媒の中のいずれか1種を含む溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

ピルビン酸アルキルエステル並びに、(a)γ-ブチロラクトン、(b)乳酸エチル及び(c)γ-ブチロラクトン/乳酸エチル混合溶媒の中のいずれか一種を含む溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027