Pat

J-GLOBAL ID：200903016287966074

レーザープラズマX線源のデブリス除去方法及び装置

Inventor： 北田 俊信 ,  山中 千代衛 ,  中井 貞雄 ,  大道 博行
Applicant, Patent owner： 関西電力株式会社 ,  財団法人レーザー技術総合研究所 ,  中井 貞雄
Agent (1)： 鎌田 文二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994149267
Publication number (International publication number)：1996017371
Application date： Jun. 30, 1994
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】 レーザープラズマX線源でターゲット物質表面のプラズマからX線と同時に発生する中性微粒子(デブリス)を完全に除去する。【構成】 レーザー光3を集光照射してターゲット物質5の表面に生成されるプラズマPsから発生するX線と同時に生じる中性微粒子(デブリス)を除去するため、取出窓6との間に紫外線ランプ11と、メッシュ状の電極15、15と、電磁石18とを設ける。紫外線ランプ11により中性微粒子に電荷を与え、その荷電微粒子の飛行する軌道を、電極15、15による電界(E)と電磁石18の電極18a、18bによる磁界(B)を直交するように設けた電磁場の作用で曲げることによりX線の経路外へ除去する。

Claim (excerpt)：

レーザー光をターゲット物質に集光照射してプラズマ化し、そのプラズマからX線と共に発生する微粒子に対しX線が所定方向に導かれる経路の任意の位置で上記微粒子に紫外線を照射して電荷を付与し、この荷電微粒子を一対の電位の異なる電極による電界と一対の極性の異なる磁極による磁場とが直交する電磁場を通過させてX線の経路外に導くようにしたことから成るレーザープラズマX線源のデブリス除去方法。