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J-GLOBAL ID：200903016297925864

多次元形状の形状パラメータの測定方法および測定装置

Inventor： 佐々木 豊春 ,  岡本 英明 ,  石川 文男 ,  伊藤 泉 ,  岸浪 健史
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993066439
Publication number (International publication number)：1994281440
Application date： Mar. 25, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 最小自乗法に比べ、最小領域法、最大内接法、最小外接法による多次元形状の形状パラメータを安定的に、しかも短時間に求めること。【構成】 多次元形状の実測形状データに対応する理論形状を与える第1段階、理論形状と形状データの間の誤差が小さくなるように、理論形状の並進又は回転移動量を算出する第2段階、第2段階の算出量をもって理論形状を並進又は回転させる第3段階、並進移動量と予めした設定値又は回転移動量と予めした設定値を比較する第4段階、第4段階において比較された結果により、再度第2〜4段階を繰り返す第5段階、第5段階と同様に第4段階において比較された結果により、その時の形状パラメータ求める第6段階とからなる多次元形状の形状パラメータ測定方法。

Claim (excerpt)：

多次元形状を実測して得られた形状データに対し、その数学的な理論形状の位置合わせを行うことにより、前記多次元形状の形状パラメータを求める測定方法において、前記形状データに対応する、前記理論形状を与える第1段階と、前記理論形状と前記形状データの間の誤差が小さくなるように、前記理論形状の少なくとも並進移動量、もしくは回転移動量を算出する第2段階と、算出された、前記並進移動量、もしくは回転移動量をもって、前記理論形状を並進、もしくは回転せしめる第3段階と、前記並進移動量とあらかじめ設定した並進移動量の設定値、もしくは前記回転移動量とあらかじめ設定した回転移動量の設定値を比較判断する第4段階と、前記第4段階において、比較判断された結果により、再度前記第2、第3、第4段階を繰り返す第5の段階と、前記第5段階と同様に、前記第4段階において比較判断された結果により、その時の形状パラメータ求める第6段階と、を有することを特徴とする多次元形状の形状パラメータ測定方法。

IPC (3)：

G01B 21/20 101 ,  G01B 21/00 ,  G06F 15/70 350

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-265521
  
• 特開昭61-057318
  
• 特開昭61-265521