光等方性剥離シート

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大石征郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992352615
Publication number (International publication number)：1994174925
Application date： Dec. 09, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：

【要約】【目的】光等方性はもとより、耐ソルベント性、耐熱性、剥離剤に対するアンカー性を兼ね備え、しかも製造コストの上昇も抑えられる光等方性剥離シートを提供することを目的とする。【構成】単層または複層の高分子層からなる光等方性ベースシート(11)上に金属酸化物層(12)を設け、さらにその金属酸化物層(12)上に剥離剤層(13)を形成した層構成を有する光等方性剥離シートである。金属酸化物層(12)は、SiOx (ただし、1<x<2)で示される酸化ケイ素の層であることが好ましい。この光等方性剥離シートは、偏光板や位相差板などの光学用部材上に設ける粘着剤層の上から被覆する目的に適している。

Claim (excerpt)：

単層または複層の高分子層からなる光等方性ベースシート(11)上に金属酸化物層(12)を設け、さらにその金属酸化物層(12)上に剥離剤層(13)を形成した層構成を有する光等方性剥離シート。

IPC (3)：

G02B 5/30 , B32B 7/02 103 , B32B 7/06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

特開平3-148603
特開昭60-159706
特開昭61-193127

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Cited by examiner (3)

特開平3-148603
特開昭60-159706
特開昭61-193127

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