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J-GLOBAL ID：200903016309411268

ガスの貯蔵方法

Inventor： 猪俣 清人 ,  金澤 一弘 ,  浦辺 安彦 ,  奥井 智治 ,  池田 元一
Applicant, Patent owner： 東京瓦斯株式会社
Agent (1)： 加茂 裕邦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999224707
Publication number (International publication number)：2001050495
Application date： Aug. 06, 1999
Publication date： Feb. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】容器内に大量のガスを貯蔵することができるガス貯蔵方法を得る。【解決手段】細孔材料を、その細孔のうち細孔径0.90nm以下の細孔が容器充填時に容器の全容積中少なくとも5%以上となるように、充填した容器内に、20気圧以上の高圧でガスを導入することにより、当該ガスの細孔材料への20気圧未満の測定における吸着特性の単なる高圧への外挿値に相当するガス充填量、および細孔材料を充填しない容器への単なる圧力充填によるガス充填量よりも大量のガスを容器内に充填することを特徴とするガスの貯蔵方法。

Claim (excerpt)：

細孔材料を、その細孔のうち細孔径0.90nm以下の細孔が容器充填時に容器の全容積中少なくとも5%以上となるように、充填した容器内に、20気圧以上の高圧でガスを導入することにより、当該ガスの細孔材料への20気圧未満の測定における吸着特性の単なる高圧への外挿値に相当するガス充填量、および細孔材料を充填しない容器への単なる圧力充填によるガス充填量よりも大量のガスを容器内に充填することを特徴とするガスの貯蔵方法。

F-Term (3)：

3E072AA03 ,  3E072DA05 ,  3E072EA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 高比表面積炭素材料の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-309386   Applicant：三菱瓦斯化学株式会社
• 水素の貯蔵
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平6-509124   Applicant：アライド-シグナル・インコーポレーテッド