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J-GLOBAL ID:200903016356196308

リチウムマンガン酸化物スピネル化合物及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 奥山 尚男 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999293438
Publication number (International publication number):2000143248
Application date: Oct. 15, 1999
Publication date: May. 23, 2000
Summary:
【要約】【課題】 リチウムマンガン酸化物スピネル化合物及びその製造方法【解決手段】 本発明は、低い多孔度、高タップ密度及び高ペレット密度を有するリチウムマンガン酸化物スピネル化合物及びこれらの化合物の製造方法を含む。特に、この方法は、スピネル構造を持ち、式Li1+XMn2-YMm11Mm22・・・MmkkO4+Zを有するリチウムマンガン酸化物を製造することを含み、式中、M1、M2・・・Mkは、アルカリ土類金属、遷移金属、B、Al、Si、Ga及びGeからなる一群から選ばれ、リチウムまたはマンガンではないカチオンであり、X、Y、m1、m2・・・mkは、それぞれは、0〜0.2の値を有し、Zは、-0.1〜+0.2の値を有し、X、Y、m1、m2・・・mkは、式Y=X+m1+m2+・・・+mkを満たすように選ばれる。
Claim (excerpt):
スピネル構造を持ち、式Li1+XMn2-YMm11Mm22・・・MmkkO4+Zを有するリチウムマンガン酸化物であって、M1、M2・・・Mkは、アルカリ土類金属、遷移金属、B、Al、Si、Ga及びGeからなる一群から選ばれ、リチウムまたはマンガンではないカチオンであり、X、Y、m1、m2・・・mkは、それぞれ0〜0.2であり、Zは、-0.1〜+0.2であり、X、Y、m1、m2・・・mkは、式Y=X+m1+m2+・・・+mkを満たすように選ばれ、また該リチウムマンガン酸化物中の1ミクロン未満の平均半径を有する孔の孔容積が該リチウムマンガン酸化物の全孔容積の20%以下であるリチウムマンガン酸化物。
IPC (4):
C01G 45/00 ,  H01M 4/02 ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40
FI (4):
C01G 45/00 ,  H01M 4/02 C ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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