Pat

J-GLOBAL ID：200903016370252105

溶融シリカ粒子の製造方法

Inventor： 河野 博之 ,  美谷 芳雄 ,  青木 博男 ,  三上 直樹
Applicant, Patent owner： 株式会社トクヤマ
Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998368339
Publication number (International publication number)：2000191315
Application date： Dec. 25, 1998
Publication date： Jul. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 より簡便に分級できる溶融シリカ粒子の製造方法を提供すること。【解決手段】 (1)煙霧シリカまたは破砕シリカを火炎に供給して溶融させ、粒径2μm以下の球状微細粒子を1重量%以上含む溶融球状シリカを生成し、(2)該溶融球状シリカを該火炎反応を実施した気体中に維持したままサイクロンに導き、そして(3)サイクロン中で粒径2μm以下の球状微細粒子を除去して、粒径2μm以下の球状微細粒子を1重量%以下でしか含まない溶融球状シリカを取得する、ことを特徴とする溶融球状シリカの製造方法。

Claim (excerpt)：

(1)煙霧シリカまたは破砕シリカを火炎に供給して溶融させ、粒径2μm以下の球状微細粒子を1重量%以上含む溶融球状シリカを生成し、(2)該溶融球状シリカを該火炎反応を実施した気体中に維持したままサイクロンに導き、そして(3)サイクロン中で粒径2μm以下の球状微細粒子を除去して、粒径2μm以下の球状微細粒子を1重量%以下でしか含まない溶融球状シリカを取得する、ことを特徴とする溶融球状シリカの製造方法。

F-Term (16)：

4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB07 ,  4G072CC16 ,  4G072DD03 ,  4G072DD04 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072MM28 ,  4G072MM38 ,  4G072TT01 ,  4G072TT05 ,  4G072UU09 ,  4G072UU30