プラスチックス基板

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：大石征郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996093654
Publication number (International publication number)：1997254334
Application date： Mar. 23, 1996
Publication date： Sep. 30, 1997
Summary：

【要約】【課題】プラスチックス基板にさらに改良を加えることにより、最良の品質のプラスチックス基板を得ることを目的とする。【解決手段】プラスチックス基板(1) のうち透明電極を形成する側の面をA面、その反対側の面をB面と名付ける。基板(1) のA面側の外層は硬化型樹脂硬化物層(11)で構成され、B面側の外層は硬化型樹脂硬化物層(12)で構成され、これら両外層で挟まれた内部側には少なくとも1層の有機の耐透気性層(13a) と少なくとも1層の無機の耐透気性層(13b) とからなる耐透気性層(13)が存在し、さらに、A面側の硬化型樹脂硬化物層(11)およびB面側の硬化型樹脂硬化物層(12)のの表面は、いずれも平滑に形成されると共に、その平滑な表面上に、スパッタリング法によるSiOx( 1.2<x<2)からなる最外層(11'), (12')が形成される。

Claim (excerpt)：

プラスチックス基板(1) のうち透明電極を形成する側の面をA面、その反対側の面をB面と名付けるとき、該基板(1) のA面側の外層は硬化型樹脂硬化物層(11)で構成され、B面側の外層は硬化型樹脂硬化物層(12)で構成され、これら両外層で挟まれた内部側には少なくとも1層の有機の耐透気性層(13a) と少なくとも1層の無機の耐透気性層(13b) とからなる耐透気性層(13)が存在し、さらに、A面側の硬化型樹脂硬化物層(11)の表面は平滑に形成されると共に、その平滑な表面上に、スパッタリング法によるSiOx( 1.2<x<2)からなる最外層(11') が形成され、B面側の硬化型樹脂硬化物層(12)の表面は平滑に形成されると共に、その平滑な表面上に、スパッタリング法によるSiOx( 1.2<x<2)からなる最外層(12') が形成されていることを特徴とするプラスチックス基板。

IPC (6)：

B32B 27/08 , B32B 7/02 103 , B32B 9/00 , C23C 14/10 , C23C 14/20 , G02F 1/1333 500

FI (6)：

B32B 27/08 , B32B 7/02 103 , B32B 9/00 A , C23C 14/10 , C23C 14/20 A , G02F 1/1333 500

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

光学用積層シートおよびその製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-353498 Applicant：藤森工業株式会社
光学用シートの製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-014800 Applicant：藤森工業株式会社
特開昭64-088425

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