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J-GLOBAL ID：200903016415130022

アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法

Inventor： 斉藤 尚史
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 小池 隆彌
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998013752
Publication number (International publication number)：1999212118
Application date： Jan. 27, 1998
Publication date： Aug. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】 明るく高コントラストを有するアクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基板1上にベースコート膜2、活性層3、ゲート絶縁膜4、ゲート電極5を所定の形状に形成する。活性層3にはソース領域およびドレイン領域6とチャネル領域7とを形成する。その後、全面に層間絶縁膜8を形成し、コンタクトホール9を開口して、ソース電極10およびドレイン電極11を形成する。この後、全面に平坦化膜12を形成し、コンタクトホール13を開口する。続いて、平坦化膜12の画素電極15が形成されていない領域をエッチングにより掘り下げ、凹部16を形成する。次に、全面に黒色の樹脂を塗布し、コンタクトホール13および凹部16を黒色の樹脂で埋める。そして、全面をエッチバックして画素電極15の表面を露出させることで、TFT上に遮光膜18を形成する。

Claim (excerpt)：

スイッチング素子を被覆して表面を平坦とする平坦化膜が形成され、前記平坦化膜に開口されたコンタクトホールを介して、前記スイッチング素子と前記平坦化膜上に形成された画素電極とが電気的に接続されたアクティブマトリクス型液晶表示装置において、前記スイッチング素子が多結晶シリコン薄膜を活性層として用いたトップゲート型薄膜トランジスタであり、前記画素電極同士の隙間および前記コンタクトホールが有色の絶縁膜で埋められていることを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装置。

IPC (3)：

G02F 1/136 500 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336

FI (3)：

G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 612 Z ,  H01L 29/78 619 A