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J-GLOBAL ID：200903016432606146

薄膜磁気ヘッドとその製造方法および磁気ディスク装置

Inventor： 江藤 公俊 ,  岡田 智弘 ,  岡井 哲也
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002162281
Publication number (International publication number)：2004013944
Application date： Jun. 04, 2002
Publication date： Jan. 15, 2004
Summary：

【課題】0.4μm以下の記録トラック幅をもつ磁気ヘッドを作製し、面記録密度40Gbit/in2以上の磁気ディスク装置を得る。【解決手段】磁気ヘッドの記録トラック幅を形成するためのレチクルに、トラック部の両側に位相シフタを配置し、上記トラック幅と位相シフタの間隔が0であるエッジ強調型位相シフトマスクを用い、0.4μm以下のトラック幅を形成する。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

磁性材料からなる下部コア層および上部コア層と、上記上下コア層を磁気的に絶縁するギャップ層と、上記上下コア層の間に絶縁された状態で配置された薄膜コイルを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、浮上面方向からみた上記上部磁気コア層の形状が、記録するトラック幅(記録トラック幅)とその膜厚が1:5以上の形状を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

IPC (1)：

G11B5/31

FI (1)：

G11B5/31 D

F-Term (5)：

5D033BA12 ,  5D033BA13 ,  5D033DA04 ,  5D033DA07 ,  5D033DA31