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J-GLOBAL ID:200903016439197721

光学式形状測定方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 最上 正太郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991207936
Publication number (International publication number):1993045134
Application date: Aug. 20, 1991
Publication date: Feb. 23, 1993
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 測定面の傾斜等による影響の少ない精密な形状測定を可能にする。【構成】 測定面S に対する光ビームの照射点P を定めた上で、その照射光軸L0を照射点P を中心とする球面上の任意の方向に傾斜移動させながら、照射光軸L0を中心とする同心円周上の中心対象位置の少なくとも3点を通る各受光軸L3,L4,L5上で得られる反射光量を比較し、それらがほぼ等しくなったときの反射光を基礎として形状測定を行なう。装置としては、光源11から照射される光ビームの照射光軸L0を中心とする同心円周上の中心対称位置の少なくとも3点を通る各受光軸L3,L4,L5上にそれぞれ光センサ13,14,15を設け、各光センサの受光量を比較し、それらがほぼ等しいとき一致信号を出力する比較器24を設け、比較器の一致信号により作動して光センサの少なくとも1つもしくは形状測定のため別途設けた反射光受光用の光センサの出力信号をデータ処理する演算処理装置25,26,27,28,29を設けて成る。
Claim (excerpt):
測定面(S) に光ビームを照射し、その反射光を受光して形状測定を行なう方法に於て、上記光ビームの照射点(P) を定めた上で、その照射光軸(L0)を上記照射点(P) を中心とする球面上の任意の方向に傾斜移動させながら、上記照射光軸(L0)を中心とする同心円周上の中心対称位置の少なくとも3点を通る各受光軸(L3,L4,L5)上で得られる反射光量を比較し、それらがほぼ等しくなったときの反射光を基礎として形状測定を行なうことを特徴とする光学式形状測定方法。
IPC (2):
G01B 11/24 ,  G01C 3/06

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