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J-GLOBAL ID:200903016447077034

磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 河野 登夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994228501
Publication number (International publication number):1996096328
Application date: Sep. 22, 1994
Publication date: Apr. 12, 1996
Summary:
【要約】【目的】 S/Nの向上及び電気的ショートの低減が可能な磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供すること。【構成】 下部電磁気的絶縁膜4の上にソフトバイアス膜5(0.02μm),非磁性分離膜6(0.01μm)及びMR膜7(0.02μm)を含むMR3層膜13が積層され、その両側に、強磁性膜8,8(0.05μm)が形成されている。MR3層膜13の両端部はテーパ状になしてあり、MR3層膜13と接する強磁性膜8,8の端部は逆テーパ状になしてある。MR3層膜13の中央部を除き、強磁性膜8,8を覆う態様で電極9,9が形成されており、その上に上部電磁気的絶縁膜10を介して上部シールド膜11が形成されている。
Claim (excerpt):
基板上に、磁気抵抗効果膜,該磁気抵抗効果膜にバイアス磁場を印加するためのソフトバイアス膜,及び前記磁気抵抗効果膜,ソフトバイアス膜間を磁気的に遮断するための非磁性分離膜を有する磁気抵抗効果3層膜と、前記磁気抵抗効果膜に接続された電極と、前記磁気抵抗効果膜の両端に接続されており、磁気抵抗効果膜に縦バイアス磁場を印加するための強磁性膜とを備える磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、前記磁気抵抗効果膜の両端がテーパ形状をなしており、その両端に接続される強磁性膜の端部が逆テーパ形状となしてあることを特徴とする磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド。

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