Pat
J-GLOBAL ID:200903016472532137
ガラス基板の蒸気乾燥装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
大原 拓也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999021711
Publication number (International publication number):2000218245
Application date: Jan. 29, 1999
Publication date: Aug. 08, 2000
Summary:
【要約】【課題】 同一の乾燥槽内で、しかも蒸気生成装置の加熱容量を調節することなく、ガラス基板を板厚の厚いものから薄いものまで乾燥ムラを生じさせることなく乾燥させる。【解決手段】 蒸気生成手段から蒸気が供給される乾燥槽10内において、その蒸気雰囲気にガラス基板を晒して乾燥させるにあたって、例えば乾燥槽10の蒸気供給口14に、蒸気量調整手段としてのシャッター18を設ける。
Claim (excerpt):
イソプロピルアルコールなどの洗浄用溶剤を加熱して蒸気を生成する蒸気生成手段と、同蒸気生成手段から蒸気が供給され、内部が所定の蒸気密度とされる乾燥槽とを有し、同乾燥槽の蒸気雰囲気内にガラス基板を晒して乾燥させるガラス基板の蒸気乾燥装置において、前記乾燥槽内に供給される蒸気量を調整する蒸気量調整手段を備えていることを特徴とするガラス基板の蒸気乾燥装置。
IPC (4):
B08B 3/08
, B08B 11/04
, F26B 3/00
, G02F 1/1333 500
FI (5):
B08B 3/08 Z
, B08B 3/08 B
, B08B 11/04
, F26B 3/00
, G02F 1/1333 500
F-Term (27):
2H090HC18
, 2H090JB02
, 2H090JC19
, 3B116AA02
, 3B116BB01
, 3B116CC03
, 3B201AA02
, 3B201BB01
, 3B201BB93
, 3B201BB95
, 3B201CC12
, 3L113AA01
, 3L113AC05
, 3L113AC08
, 3L113AC16
, 3L113AC48
, 3L113AC50
, 3L113AC54
, 3L113AC65
, 3L113AC67
, 3L113AC75
, 3L113AC79
, 3L113AC90
, 3L113BA34
, 3L113CA11
, 3L113DA01
, 3L113DA24
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