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J-GLOBAL ID：200903016492447861

マイクロエレクトロニクス基板洗浄用のpH調整された、非イオン性表面活性剤含有アルカリ性クリーナー組成物

Inventor： ジョセフ エム. イラルディ ,  ジョージ シュワルツコフ ,  ゲイリー ジー. デイレイ
Applicant, Patent owner： ジェイ ティ- ベ-カ- インコ-ポレイテッド
Agent (1)： 佐々井 克郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995115235
Publication number (International publication number)：1995297158
Application date： Apr. 18, 1995
Publication date： Nov. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 本発明の目的は、マイクロエレクトロニクス基板の洗浄用組成物を提供することである。【構成】 組成物は、無金属イオンの塩基、非イオン性表面活性剤、及びおよそ8と10の間の範囲内に洗浄液のpHを下げる又は調節するための成分からなる。洗浄用組成物で洗浄しても基板の表面は滑らかなまま保たれる。

Claim (excerpt)：

無金属イオンの塩基水溶液、非イオン性表面活性剤、及び洗浄液のpHを約pH 8〜約pH 10の範囲内のpHに下げる又は調整するための有効量のpH低下化学成分を含む、マイクロエレクトロニクス基板用のアルカリ性洗浄液。

IPC (6)：

H01L 21/304 341 ,  C11D 10/02 ,  H01L 21/308 ,  C11D 1:66 ,  C11D 7:06 ,  C11D 7:32