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J-GLOBAL ID：200903016496586009
真空処理装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井上 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993125218
Publication number (International publication number)：1994314729
Application date： Apr. 28, 1993
Publication date： Nov. 08, 1994
Summary：
【要約】【目的】 複数の真空処理室を備えた真空処理装置において容器に対する被処理体の受け渡しを確実に行い、また汎用性が大きく、高いスループットを得ること。【構成】 第1の移載室1に第1及び第1のカセット室22を接続し、第1の移載室1と第2の移載室4との間に、加熱手段及び冷却手段を兼備した第1及び第2の予備真空室3A、3Bを介在させ、第1の移載室に真空処理室5A〜5Cを接続する。カセット22、第1の移載室1及び予備真空室3A(3B)間のウエハの移載を大気圧以上の例えば不活性ガス雰囲気中で行うようにし、また第1、第2の移載室1、4間のウエハの搬送経路を種々設定して選択できるように、更には連続処理、同一処理の選択をできるように構成する。
Claim (excerpt)：
被処理体を収納する容器が載置される容器載置部及び第1の移載手段を備えたローダ室と、このローダ室に夫々接続され、加熱手段及び冷却手段を兼備した第1の予備真空室及び第2の予備真空室と、これら第1及び第2の予備真空室に接続され、第2の移載手段を備えた移載室と、この移載室に接続された複数の真空処理室と、前記第1の予備真空室及び第2の予備真空室を挟んだローダ室と移載室との間の被処理体の搬送経路を選択できるモード選択手段と、を備え、前記容器載置部と第1または第2の予備真空室との間の被処理体の移載を前記第1の移載手段により大気圧以上の気体雰囲気中で行い、前記第1または第2の予備真空室と真空処理室との間の被処理体の移載を前記第2の移載手段により真空雰囲気中で行うことを特徴とする真空処理装置。
IPC (5)：
H01L 21/68
, B25J 21/02
, H01J 37/317
, H01L 21/265
, H01L 21/302
