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J-GLOBAL ID：200903016508834291

基板処理装置

Inventor： 寺内 健一
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 小谷 悦司 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997270147
Publication number (International publication number)：1999106042
Application date： Oct. 02, 1997
Publication date： Apr. 20, 1999
Summary：

【要約】【課題】 構成が簡単で安価となり、基板の割れなどの損傷や基板面へのパーティクルの付着を大幅に抑制する。【解決手段】 基板搬送装置3は基板2の被処理面に垂直な方向に搬送するのではなく基板2の被処理面に沿った方向へ搬送するようになっている。また、クリーンルーム内では、パーティクルの浮遊を防止するべくダウンフローFを積極的に利用しているが、各工程における吸着ステージ43で基板2を鉛直または傾斜姿勢で保持しつつ基板搬送装置3による各工程間の基板2の搬送や各工程による各種処理を行っている。さらに、熱処理部6〜8,10,11では、同一処理を施す複数の処理部を有しており、1つの処理工程内に基板2を長い処理時間プール可能となってより短い処理タクトで搬送時間を制御することができる。

Claim (excerpt)：

基板を鉛直または傾斜姿勢で保持しつつ搬送して基板に所定の処理を施す基板処理装置において、基板を鉛直または傾斜姿勢で保持して少なくとも同一処理を施す複数の処理部を有する処理手段と、この処理手段に基板を受渡しするべく、基板を鉛直または傾斜姿勢で保持しその基板面に沿った方向へ搬送する搬送手段と、前記複数の処理部を前記搬送手段による搬送方向に対して交差する方向へ移動させる移動手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4)：

B65G 49/07 ,  B05C 13/02 ,  G02F 1/00 ,  H01L 21/027

FI (4)：

B65G 49/07 C ,  B05C 13/02 ,  G02F 1/00 ,  H01L 21/30 502 J