レーザープラズマEUV光源装置及びそれに用いられるターゲット

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：大川宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001004756
Publication number (International publication number)：2002214400
Application date： Jan. 12, 2001
Publication date： Jul. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】数kHz以上の高頻度でレーザービームを照射してEUV領域の波長の電磁波を繰り返し発生させることができるようにする。【解決手段】真空容器1と、真空容器1内に配置されたテープ状のターゲット33と、ターゲット33にエネルギービームを照射するビーム照射手段と、エネルギービームをターゲット33に導く入力光学系2と、発生した電磁波を導く出力光学系5と、入力光学系2及び出力光学系5の少なくとも一方をデブリから保護する遮蔽装置4と、電磁波からEUV領域の波長の電磁波を選択する波長選択装置53と、から構成した。ターゲット33を高分子フィルムと金属層との二層構造とすることでデブリの発生を抑制でき、発生したデブリも遮蔽装置4で遮蔽される。またターゲット33の巻取り厚さを小さくできるので、長時間の供給が可能となり装置も小型化可能となる。

Claim (excerpt)：

レーザープラズマEUV光源装置内に配置されエネルギービームの照射によりEUV領域の波長の電磁波を発生するターゲットであって、膜厚10〜 100μmの高分子フィルムと、該高分子フィルムに保持されたターゲット材料とからなることを特徴とするレーザープラズマEUV光源装置に用いられるターゲット。

IPC (5)：

G21K 5/08 , G03F 7/20 503 , G21K 5/00 , H01L 21/027 , H05H 1/24

FI (5)：

G21K 5/08 X , G03F 7/20 503 , G21K 5/00 Z , H05H 1/24 , H01L 21/30 531 S

F-Term (7)：

2H097AB09 , 2H097CA15 , 2H097LA10 , 5F046GA07 , 5F046GB05 , 5F046GB07 , 5F046GC03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

X線光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-053834 Applicant：株式会社トヨタマックス, 株式会社豊田中央研究所
X線レーザ用ターゲット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-351040 Applicant：株式会社トヨタマックス, 学校法人トヨタ学園, 株式会社豊田中央研究所, 科学技術振興事業団, トヨタ自動車株式会社, 株式会社デンソー, 株式会社リコー
レーザプラズマ軟X線のエネルギー測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-313437 Applicant：株式会社トヨタマックス, 株式会社豊田中央研究所

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