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J-GLOBAL ID:200903016518295461

電磁波遮蔽膜およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 内田 幸男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993034359
Publication number (International publication number):1994232586
Application date: Jan. 29, 1993
Publication date: Aug. 19, 1994
Summary:
【要約】【構成】 透明基板上に形成された電磁波遮蔽膜であって、酸化インジウム、酸化スズおよび/または酸化アンチモンを主成分とする平均粒径30〜5,000オングストロームの導電性微粒子50〜100重量部と樹脂バインダー0〜100重量部とからなり、10μm以下の厚さを有する膜。この膜は、該導電性微粒子と樹脂バインダーと分散媒とからなる液状組成物を透明基板上に塗布し、硬化することにより作成される。【効果】 塗布法により、比較的簡易に作成することができ、且つ、良好な透明性と電磁波遮蔽性能を有する。
Claim (excerpt):
酸化インジウム、酸化スズおよび酸化アンチモンの中から選ばれた少くとも一種を主成分とする平均粒径30〜5,000オングストロームの導電性微粒子50〜100重量部と樹脂バインダー0〜100重量部とからなり、10μm以下の厚さを有することを特徴とする、透明基板上に形成された電磁波遮蔽膜。
IPC (3):
H05K 9/00 ,  H01B 5/14 ,  H01F 1/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭62-170330
  • 特開昭62-066931

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