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J-GLOBAL ID：200903016518811087

ジオール類の製造方法

Inventor： 中西 章夫 ,  井上 朋彦 ,  大森 康朗 ,  原田 淳 ,  宇都宮 賢
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002044710
Publication number (International publication number)：2003238465
Application date： Feb. 21, 2002
Publication date： Aug. 27, 2003
Summary：

【要約】【課題】 工業的に有利なジオール類の製造方法を提供する。【解決手段】 第8族遷移金属均一系触媒の存在下で、共役ジエン類、分子状酸素及びプロトン供与体を反応させることを特徴とするジオール類の製造方法。【効果】 ジエン類、分子状酸素及びプロトン供与体から、単工程で、ラジカル反応による微量不純物の生成や触媒コストの増大を伴わずに、ジオール類を工業的に有利に製造することができる。

Claim (excerpt)：

第8族遷移金属均一系触媒の存在下で、共役ジエン類、分子状酸素及びプロトン供与体を反応させることを特徴とするジオール類の製造方法。

IPC (3)：

C07C 29/50 ,  C07C 33/035 ,  C07B 61/00 300

FI (3)：

C07C 29/50 ,  C07C 33/035 ,  C07B 61/00 300

F-Term (20)：

4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006BA22 ,  4H006BA24 ,  4H006BA25 ,  4H006BA32 ,  4H006BA34 ,  4H006BA37 ,  4H006BA45 ,  4H006BA60 ,  4H006BB17 ,  4H006BB31 ,  4H006BC37 ,  4H006BE30 ,  4H006FE11 ,  4H006FG28 ,  4H006FG29 ,  4H039CA29 ,  4H039CA60 ,  4H039CC30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭55-040623
  
• 特開昭59-084831
  

Cited by examiner (2)

• 特開昭55-040623
  
• 特開昭59-084831