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J-GLOBAL ID：200903016553848511

露光装置

Inventor： 中谷 隆司 ,  西川 寛 ,  川浦 英明
Applicant, Patent owner： 日本電産シンポ株式会社 ,  ソニー株式会社
Agent (1)： 松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998091908
Publication number (International publication number)：1999288099
Application date： Apr. 03, 1998
Publication date： Oct. 19, 1999
Summary：

【要約】【課題】 露光装置における露光マスクの交換を容易にし、且つ露光マスクの破損を防ぐ。【解決手段】 露光マスクを着脱可能に保持しうるマスク保持部材131と、マスク保持部材131をマスク交換位置と露光部の位置との間で往復移送するための移載機130とを有し、マスク交換位置で露光マスク5を移載機130上のマスク保持部材131に保持し、露光部の位置でマスク保持部材131ごと露光マスク5を露光部に受け渡す機構とされて成る。

Claim (excerpt)：

露光マスクを着脱可能に保持しうるマスク保持部材と、該マスク保持部材をマスク交換位置と露光部の位置との間で往復移送するための移載機とを有し、前記マスク交換位置で前記露光マスクを前記移載機上の前記マスク保持部材に保持し、前記露光部の位置で前記マスク保持部材ごと前記露光マスクを前記露光部に受け渡す機構とされて成ることを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

G03F 7/20 511 ,  G02F 1/13 505 ,  H01J 9/227

FI (3)：

G03F 7/20 511 ,  G02F 1/13 505 ,  H01J 9/227 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• マスク交換装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-225306   Applicant：株式会社ニコン
• 特開平2-119114
  
• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-053378   Applicant：サンエー技研株式会社