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J-GLOBAL ID:200903016575135055

投影露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大森 聡
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997341445
Publication number (International publication number):1999176727
Application date: Dec. 11, 1997
Publication date: Jul. 02, 1999
Summary:
【要約】【課題】 露光光を実質的に短波長化し、また、露光が液体中で行われる場合であっても、基板表面の投影光学系の光軸方向の位置を高精度に検出する。【解決手段】 ウエハWに最も近い投影光学系のレンズ4とウエハWとの間を満たすように側壁8内に液体7を供給する。超音波射出系5から超音波を射出し、超音波集束位置SSにおいて反射した超音波を超音波受信系6により受信する。超音波受信系6からの検出信号に基づいて、超音波の集束位置SSにおけるベストフォーカス位置からのデフォーカス量を求める。求められたデフォーカス量に基づいて試料台9をZ方向に駆動し、フォーカス位置の制御を行う。
Claim (excerpt):
マスクパターンを投影光学系を介して基板上に転写する投影露光装置において、前記基板の表面に所定の液体を供給する液浸装置と、前記基板の表面に前記液体を介して超音波を送出し、前記表面で反射される超音波を検出することによって前記表面の前記投影光学系の光軸方向の位置を検出する超音波方式の面位置検出装置と、を備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G01B 17/00 ,  G03F 7/20 521
FI (4):
H01L 21/30 526 Z ,  G01B 17/00 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C

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