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J-GLOBAL ID：200903016623052582

プラズマジェットを発生しかつ偏向するための装置

Inventor： スィニアギン、オレグ
Applicant, Patent owner： アイペック・プリシジョン・インコーポレーテッド
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997542975
Publication number (International publication number)：2000511344
Application date： May. 30, 1997
Publication date： Aug. 29, 2000
Summary：

【要約】発生したプラズマジェットの効果的な偏向を可能とするプラズマジェットジェネレータ装置を開示する。この装置は、ガス入口および出口を有する電極チャンバと、この電極チャンバ内に配置されて電極軸線を形成する電極とを有する。電極チャンバ出口から流出すろプラズマの方向を電極軸線に対して偏向するために、一対の磁界偏向システムが設けられる。磁界偏向システムは、U字状部材から形成され、電極チャンバの回りに配分される。磁界偏向システムは、プラズマを電極軸線から離隔させるように、プラズマに2つの偏向力を作用させることができる。

Claim (excerpt)：

ガス入口および出口を有する電極チャンバと、 この電極チャンバ内に配置され、電極軸線を形成する電極と、 電極チャンバから流出するプラズマに第1変更力を作用させ、プラズマを電極軸線から離隔させて第1方向に流す第1磁界偏向システムとを備え、この第1磁界偏向システムは、第1ベース部と端部を持つ第1対のポールとベース部の回りに配置される第1コイルとから形成された第1U字状部材を備え、この第1磁界偏向システムは、電極部材内に配置された電極で形成される電極軸線の両側に第1ポールが配置されるように電極チャンバの回りに配置され、更に、 電極チャンバから流出するプラズマに第2偏向力を作用させ、プラズマを電極軸線から離隔させて第2方向に流す第2磁界偏向システムを備え、この第2磁界偏向システムは、第2ベース部と端部を持つ第2対のポールとベース部の回りに配置されたコイルとから形成された第2U字状部材を備え、この第2磁界偏向システムは、電極部材内に配置された電極で形成される電極軸線の両側に第2ポールが配置されるように、電極チャンバの回りに配置される、 プラズマジェットを発生しかつ偏向するためのプラズマジェネレータ。

IPC (3)：

H05H 1/40 ,  H05H 1/44 ,  H05H 1/42

FI (3)：

H05H 1/40 ,  H05H 1/44 ,  H05H 1/42