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J-GLOBAL ID：200903016641307067
イオン注入装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993052931
Publication number (International publication number)：1994243815
Application date： Feb. 18, 1993
Publication date： Sep. 02, 1994
Summary：
【要約】【目的】 ファラデー系内でディスク上のウェーハに付着するパーティクルを簡単に低減することができるようにしたイオン注入装置を提供する。【構成】 ファラデーカップ12の周りをディスク4の表面近傍でディスク4に対向して取り囲むリング状の集塵電極30を、サイドサプレッサ電極16の外側に設けた。この集塵電極30には、集塵電源32によって、ファラデーカップ12ひいてはそれに電気的に接続されたディスク4に対して正の電圧が印加される。
Claim (excerpt)：
注入室内で回転および並進させられるディスクであってその周縁部に複数枚のウェーハを装着可能なものを備え、イオンビームをこのディスク上のウェーハに照射して各ウェーハにイオン注入を行うイオン注入装置において、前記ディスクのウェーハ装着側の表面近傍であってウェーハに対するイオンビーム照射領域のディスク回転方向側の近傍に、ディスクに対向するように、ディスクに対して正の電圧が印加される集塵電極を設けたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01L 21/265
