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J-GLOBAL ID:200903016648957318

真空排気システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997074620
Publication number (International publication number):1998252651
Application date: Mar. 11, 1997
Publication date: Sep. 22, 1998
Summary:
【要約】【課題】 PFCガスなどの大気への放出を防止するとともに、パージ用ガスを節約して、環境保全、運転の信頼性と安全性の向上、更には設備や運転コストの低減を図る。【解決手段】 真空チャンバ10と、該真空チャンバを排気する真空ポンプ14と、該真空ポンプの下流側に配置した排ガス処理装置16と、該排ガス処理装置のさらに下流側に配置されて該排ガス処理装置により処理できなかったガスを貯蔵するガス貯蔵部18とを有する。
Claim (excerpt):
真空チャンバと、該真空チャンバを排気する真空ポンプと、該真空ポンプの下流側に配置した排ガス処理装置と、該排ガス処理装置のさらに下流側に配置されて該排ガス処理装置により処理できなかったガスを貯蔵するガス貯蔵部とを有することを特徴とする真空排気システム。
IPC (7):
F04B 37/16 ,  B01J 3/02 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/02
FI (8):
F04B 37/16 C ,  F04B 37/16 E ,  B01J 3/02 M ,  C23C 16/44 D ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-013878
  • 特開平4-209987

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