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J-GLOBAL ID：200903016649590191
投影露光装置、収差評価用マスクパタン、収差量評価方法、収差除去フィルター及び半導体装置の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995325988
Publication number (International publication number)：1997167731
Application date： Dec. 14, 1995
Publication date： Jun. 24, 1997
Summary：
【要約】【課題】 この発明は、光学系が伴う収差の影響を除去して高精度のパタン転写を行うことができる投影露光装置を提供することを課題とする。【解決手段】 ランプハウス1から発せられた紫外線はフライアイレンズ3で互いに独立な多数の点光源に分割され、さらにアパーチャー4により整形されて2次光源面を形成し、ブラインド6で露光領域が設定された後、フォトマスク10を照明し、フォトマスク10からの回折光の光源像が投影光学系11の瞳面上に形成される。投影光学系11の瞳面上に配置された収差除去フィルター13により波面収差が補償された後、ウエハ12上に回路パタンが結像される。
Claim (excerpt)：
光源と、前記光源からの照明光を整形し2次光源面を形成するアパーチャーと、露光領域を設定するための開口部を有するブラインドと、回路パタンを有すると共に2次光源面からの照明光により照明されるフォトマスクと、前記フォトマスクからの回折光を被露光基板上に結像させて前記フォトマスクの回路パタンを投影する投影光学系と、前記投影光学系の瞳面上に配置され且つ収差を除去するための収差除去フィルターとを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (6)：
H01L 21/027
, G02B 5/18
, G02B 13/24
, G02B 19/00
, G03F 1/08
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 A
, G02B 5/18
, G02B 13/24
, G02B 19/00
, G03F 1/08 D
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
