Pat
J-GLOBAL ID:200903016650080636
研磨粒子含有廃液の処理方法および装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
志賀 正武 (外8名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999067591
Publication number (International publication number):2000254645
Application date: Mar. 12, 1999
Publication date: Sep. 19, 2000
Summary:
【要約】【課題】 処理水量の低下を防ぐことができる研磨粒子含有廃液の処理方法を提供する。【解決手段】 凝集槽1内の研磨粒子含有廃液に、無機凝集剤供給手段2からの無機凝集剤を添加し廃液中の研磨粒子を凝集させる凝集工程と、この凝集工程によって得られた凝集物を膜分離手段4においてクロスフロー方式により膜分離する膜分離工程を有する処理方法。
Claim (excerpt):
研磨粒子含有廃液に無機凝集剤を添加し廃液中の研磨粒子を凝集させる凝集工程と、この凝集工程によって得られた凝集物をクロスフロー方式により膜分離する膜分離工程を有することを特徴とする研磨粒子含有廃液の処理方法。
IPC (4):
C02F 1/44 ZAB
, B01D 21/01 102
, C02F 1/52
, B01D 29/25
FI (4):
C02F 1/44 ZAB K
, B01D 21/01 102
, C02F 1/52 K
, B01D 29/30 520 B
F-Term (72):
4D006GA02
, 4D006HA22
, 4D006JA25B
, 4D006JA25C
, 4D006KA02
, 4D006KA03
, 4D006KA63
, 4D006KA72
, 4D006KB11
, 4D006KB13
, 4D006KB30
, 4D006KC03
, 4D006KD08
, 4D006KE02P
, 4D006KE05P
, 4D006KE07Q
, 4D006KE11R
, 4D006KE12P
, 4D006KE15Q
, 4D006KE28P
, 4D006MA02
, 4D006MA31
, 4D006MA33
, 4D006MA40
, 4D006MC02
, 4D006MC04
, 4D006MC11
, 4D006MC23
, 4D006MC48X
, 4D006MC55
, 4D006PA01
, 4D006PB08
, 4D006PB20
, 4D006PB23
, 4D006PC01
, 4D015BA04
, 4D015BA19
, 4D015BB05
, 4D015CA20
, 4D015DA04
, 4D015DA05
, 4D015DA08
, 4D015DA13
, 4D015DA15
, 4D015DA16
, 4D015DA19
, 4D015DC02
, 4D015DC04
, 4D015EA37
, 4D015FA02
, 4D015FA17
, 4D015FA19
, 4D015FA22
, 4D062BA04
, 4D062BA19
, 4D062BB05
, 4D062CA20
, 4D062DA04
, 4D062DA05
, 4D062DA08
, 4D062DA13
, 4D062DA15
, 4D062DA16
, 4D062DA19
, 4D062DC02
, 4D062DC04
, 4D062EA04
, 4D062EA37
, 4D062FA02
, 4D062FA17
, 4D062FA19
, 4D062FA22
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