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J-GLOBAL ID：200903016658083111

DNAチップ用基板及びその製造方法並びにDNAチップの製造方法

Inventor： 中山 隆雄 ,  川村 浩一
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001213454
Publication number (International publication number)：2003028864
Application date： Jul. 13, 2001
Publication date： Jan. 29, 2003
Summary：

【要約】【課題】 得率が高く、かつDNAプローブのはり付けが確実に行われるDNAチップを得ることができるDNAチップ用基板、その製造方法、及びその基板を用いるDNAチップの製造方法を提示すること。【解決手段】 疎水性であって光又は熱の作用によって親水性となる表面を有する原板上に複数の親水性微小領域を配列させたDNAチップ用基板。及び該親水性微小領域にDNAプローブを受容させるDNAチップの製造方法。とくに、DNAプローブを含む液滴をインクジェット方式によって受容させるDNAチップの製造方法。

Claim (excerpt)：

疎水性であって光又は熱の作用によって親水性となる表面を有する原板上に複数の親水性微小領域を配列させてなり、該親水性微小領域がDNAプローブを受容するセル領域を構成していることを特徴とするDNAチップ用基板。

IPC (5)：

G01N 33/53 ,  C12M 1/00 ,  C12N 15/09 ,  G01N 31/22 121 ,  G01N 37/00 102

FI (5)：

G01N 33/53 M ,  C12M 1/00 A ,  G01N 31/22 121 P ,  G01N 37/00 102 ,  C12N 15/00 F

F-Term (16)：

2G042AA01 ,  2G042BD19 ,  2G042CB03 ,  2G042FB05 ,  2G042HA08 ,  4B024AA11 ,  4B024AA20 ,  4B024CA09 ,  4B024HA12 ,  4B029AA07 ,  4B029AA23 ,  4B029BB20 ,  4B029CC10 ,  4B029FA12 ,  4B029GA03 ,  4B029GB04