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J-GLOBAL ID：200903016680344336

グラフェンシートから炭素化触媒を除去する方法、炭素化触媒が除去されたグラフェンシートを素子に転写する方法、及び該方法によるグラフェンシート及び素子

Inventor： 申 鉉 振 ,  崔 在 榮 ,  尹 善 美
Applicant, Patent owner： 三星電子株式会社
Agent (1)： 八田国際特許業務法人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009003718
Publication number (International publication number)：2009298683
Application date： Jan. 09, 2009
Publication date： Dec. 24, 2009
Summary：

【課題】グラフェンシートから炭素化触媒を除去する方法、炭素化触媒が除去されたグラフェンシートを素子に転写する方法、及び該方法によるグラフェンシート及び素子を提供する。【解決手段】炭素化触媒上に形成されたグラフェンシートに該グラフェンシートを全部または一部において保持及び固定するバインダー層を形成した後、前記グラフェンシートから前記炭素化触媒を除去する。さらに、このように炭素化触媒が除去されたグラフェンシートを素子に転写する。前記グラフェンシートから前記炭素化触媒を除去する際に酸を利用することができ、このとき、湿潤剤をさらに利用することができる。【選択図】図6

Claim (excerpt)：

炭素化触媒上に形成されたグラフェンシートに前記グラフェンシートを全部または一部において保持及び固定するバインダー層を形成する段階、及び 前記グラフェンシートから前記炭素化触媒を除去する段階、 を含むグラフェンシートから炭素化触媒を除去する方法。

IPC (1)：

C01B 31/04

FI (1)：

C01B31/04 101Z

F-Term (16)：

4G146AA02 ,  4G146AB07 ,  4G146AC01A ,  4G146AC01B ,  4G146AD21 ,  4G146AD30 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BC09 ,  4G146BC34B ,  4G146BC37B ,  4G146BC44 ,  4G146CA02 ,  4G146CA11 ,  4G146CA12 ,  4G146CB01