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J-GLOBAL ID：200903016701152645

低分子ラジカル供給方法、ラジカル運搬分子、重合体製造方法及び重合体

Inventor： 小野 泰蔵 ,  林 永二 ,  深谷 治彦 ,  清水 哲男
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  ダイキン工業株式会社
Agent (1)： 安富 康男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001352475
Publication number (International publication number)：2003147008
Application date： Nov. 16, 2001
Publication date： May. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】 極安定パーフルオロアルキル系ラジカルからより低分子量のラジカルを放出した後、上記極安定パーフルオロアルキル系ラジカルを生成することよりなる低分子ラジカル供給方法を提供する。【解決手段】 ラジカル運搬分子から極安定パーフルオロアルキル系ラジカルを生成させる極安定ラジカル生成反応と、前記極安定パーフルオロアルキル系ラジカルから低分子ラジカルを放出させるラジカル放出反応とよりなり、前記ラジカル運搬分子は、前記ラジカル放出反応により生成されることを特徴とする低分子ラジカル供給方法。

Claim (excerpt)：

ラジカル運搬分子から極安定パーフルオロアルキル系ラジカルを生成させる極安定ラジカル生成反応と、前記極安定パーフルオロアルキル系ラジカルから低分子ラジカルを放出させるラジカル放出反応とよりなり、前記ラジカル運搬分子は、前記ラジカル放出反応により生成されることを特徴とする低分子ラジカル供給方法。

IPC (5)：

C08F 4/00 ,  C07B 51/00 ,  C07C 17/275 ,  C07C 22/08 ,  C07B 61/00 300

FI (5)：

C08F 4/00 ,  C07B 51/00 G ,  C07C 17/275 ,  C07C 22/08 ,  C07B 61/00 300

F-Term (17)：

4H006AA02 ,  4H006AC23 ,  4H006AC30 ,  4H006AC80 ,  4H006BA37 ,  4H006BA53 ,  4H006BA93 ,  4H006BD33 ,  4H006BD52 ,  4H006BE53 ,  4H006BE62 ,  4H039CA19 ,  4H039CA51 ,  4H039CD10 ,  4H039CF90 ,  4J015EA06 ,  4J015EA10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 含フッ素陰イオン界面活性剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-240745   Applicant：株式会社ネオス
• 特開平1-126303
  
• 特公平1-029175
  
• 特開昭50-006906
  
• 特開昭49-110607
  
• 特開昭49-108004