Pat
J-GLOBAL ID：200903016710856230
3次元形状測定装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
川野 宏
, 緒方 保人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005283803
Publication number (International publication number)：2007093412
Application date： Sep. 29, 2005
Publication date： Apr. 12, 2007
Summary：
【課題】被測定面の形状変化が大きいような場合でも、三角測量の原理に基づき、被測定面の3次元形状を高精度に求めることが可能な3次元形状測定装置を得る。【解決手段】被測定面7に輝線を投影、走査する投影走査系2と、被測定面7に投影されて変形した輝線を互いに異なる方向から撮像する第1および第2の撮像系3,4と、輝線の投影方向を検出する投影方向検出手段5とを備えることにより、第1の3次元座標取得部61によって得られたステレオ法による3次元座標データに基づく形状解析と、第2の3次元座標取得手段によって得られた光切断法による3次元座標データに基づく形状解析とを、適宜組み合わせて実施できるようにする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
被測定面に測定用パターンを投影、走査する投影走査系と、
前記被測定面に投影、走査された前記測定用パターンを互いに異なる方向から撮像する第1および第2の撮像系と、
前記測定用パターンの投影方向を検出する投影方向検出手段と、
前記第1の撮像系により撮像された画像上における前記測定用パターンの座標と、該第1の撮像系と同じタイミングで前記第2の撮像系により撮像された画像上における前記測定用パターンの座標との対応関係、および前記第1および第2の撮像系の間に設定された第1基線長に基づき、前記測定用パターンが投影された位置における前記被測定面の3次元座標を求める第1の3次元座標取得手段と、
前記第1の撮像系により撮像された画像上における前記測定用パターンの座標と、該第1の撮像系と前記投影走査系との間に設定された第2基線長と、前記投影方向とに基づき、および/または、前記第2の撮像系により撮像された画像上における前記測定用パターンの座標と、該第2の撮像系と前記投影走査系との間に設定された第3基線長と、前記投影方向とに基づき、前記測定用パターンが投影された位置における前記被測定面の3次元座標を求める第2の3次元座標取得手段と、
前記測定用パターンが前記被測定面を走査する過程において、前記第1および第2の3次元座標取得手段によりそれぞれ求められた3次元座標データを、適宜組み合わせて前記被測定面の3次元形状を求める3次元形状解析手段と、
を備えてなることを特徴とする3次元形状測定装置。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (17)：
2F065AA04
, 2F065AA31
, 2F065AA53
, 2F065FF04
, 2F065FF05
, 2F065GG06
, 2F065HH05
, 2F065HH07
, 2F065JJ05
, 2F065JJ19
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065LL11
, 2F065LL13
, 2F065MM11
, 2F065QQ00
, 2F065QQ31
