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J-GLOBAL ID：200903016726451922

CVD反応管内ガス流可視化方法

Inventor： 松島 政人 ,  元木 健作
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 越場 隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997187290
Publication number (International publication number)：1999021195
Application date： Jun. 27, 1997
Publication date： Jan. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 CVD反応管内のガス流を可視化する。【解決手段】 薄膜の原料ガスの一部であるNH3 およびHClの反応により生ずるNH4Cl粒子をガス流の可視化に利用する。

Claim (excerpt)：

CVD法により基板上に薄膜を成長させる際に、反応管内にNH3 およびHClを同時に供給し、両者が反応して生ずるNH4Cl粒子により反応管内のガス流を可視化する方法において、反応管壁を加熱するヒータにより、反応管壁に付着したNH4Cl粒子を除去することを特徴とする方法。

IPC (5)：

C30B 25/14 ,  C23C 16/44 ,  C30B 29/40 502 ,  G01P 13/00 ,  H01L 21/205

FI (5)：

C30B 25/14 ,  C23C 16/44 A ,  C30B 29/40 502 D ,  G01P 13/00 D ,  H01L 21/205