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J-GLOBAL ID：200903016731955254

アクティブマトリックス型液晶ディスプレイの製造方法

Inventor： 大西 隆 ,  岩村 栄治 ,  山本 正剛 ,  高木 勝寿 ,  吉川 一男
Applicant, Patent owner： 株式会社神戸製鋼所
Agent (1)： 植木 久一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994150024
Publication number (International publication number)：1996018060
Application date： Jun. 30, 1994
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】 アクティブマトリックス型液晶ディスプレイにおいて、ゲート絶縁膜部のショート及び絶縁破壊を防止して素子の信頼性を高める。同時に配線膜の比抵抗を小さくし、ゲートバスラインの遅延時間の短縮を図る。【構成】 ?@物理蒸着による配線膜及び電極膜の形成工程(Fe,Co,REMを0.1〜10at%含むAl基合金を用いる)?Aパターニング工程?B陽極酸化工程(陽極酸化膜の厚みを200Å以上とする)

Claim (excerpt)：

基板上に物理蒸着法を適用して薄膜状の配線膜及び電極膜を形成する工程と、前記配線膜及び電極膜をパターニングする工程と、該パターニング工程の後に前記配線膜及び電極膜の一部または全部を陽極酸化する工程とを含む製造工程により、薄膜状の配線膜及びスイッチング素子を備えた液晶ディスプレイを製造するに際し、前記配線膜及び電極膜を、Fe,Coまたは希土類元素のうち少なくとも1種類以上を0.1〜10at%含有するAl基合金で形成し、且つ前記陽極酸化膜の厚みを200Å以上にすることを特徴とするアクティブマトリックス型液晶ディスプレイの製造方法。

IPC (2)：

H01L 29/786 ,  G02F 1/136 500

FI (2)：

H01L 29/78 311 A ,  H01L 29/78 311 G