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J-GLOBAL ID：200903016766240630

水浄化処理装置

Inventor： 苅谷 由利 ,  池本 都 ,  永森 新五郎 ,  永森 佳子
Applicant, Patent owner： 有限会社ケイ・アイ・ティー ,  株式会社東洋技研
Agent (1)： 大竹 正悟
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999034744
Publication number (International publication number)：2000233199
Application date： Feb. 12, 1999
Publication date： Aug. 29, 2000
Summary：

【要約】【課題】 高負荷状態から低負荷状態までの処理対象水に対し、比較的簡易な設備により適宜対応して浄化処理が可能である水浄化処理装置を提供する。【解決手段】 処理対象水中の浮遊物と沈殿物との分離及びSS除去のための炭素系ろ材8が充填され、油脂成分を吸収除去する木質材9が充填された前処理槽2と、処理対象水中の窒素及び燐を除去するための植物13を植生した植生処理槽4と、Ca、Fe、Al、Mgのうち少なくとも一種以上の元素と炭素とを含有してなる脱燐材14が充填されるとともに電極15を備え、電極15を介して脱燐材14を通電するようにした燐化合物生成室16及び、生成した燐化合物を除去するための燐除去ろ材17が充填された燐化合物除去室19からなる脱燐処理槽5と、を上流側から順に備えてなるものとした。

Claim (excerpt)：

処理対象水中の浮遊物と沈殿物との分離及びSS除去のための炭素系ろ材が充填されるとともに油脂成分を吸収除去する木質材が充填された前処理槽と、処理対象水中の窒素及び燐を除去するための植物を植生した植生処理槽と、Ca、Fe、Al、Mgのうち少なくとも一種以上の元素と炭素とを含有してなる脱燐材が充填されるとともに電極を備え、そして、該電極を介して脱燐材を通電するようにした燐化合物生成室及び、生成した燐化合物を除去するための燐除去ろ材が充填された燐化合物除去室からなる脱燐処理槽と、を上流側から順に備えてなる水浄化処理装置。

IPC (8)：

C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/463 ,  C02F 1/465 ,  C02F 3/32 ZAB ,  C02F 3/34 101

FI (7)：

C02F 9/00 501 Z ,  C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 502 L ,  C02F 1/28 H ,  C02F 3/32 ZAB ,  C02F 3/34 101 D ,  C02F 1/46 102

F-Term (23)：

4D024AA04 ,  4D024AB01 ,  4D024AB12 ,  4D024BA03 ,  4D024BA07 ,  4D024BB01 ,  4D024BC01 ,  4D024DB09 ,  4D024DB14 ,  4D040CC01 ,  4D040CC09 ,  4D061DA08 ,  4D061DB18 ,  4D061DC13 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB18 ,  4D061EB20 ,  4D061EB22 ,  4D061EB24 ,  4D061FA06 ,  4D061FA15